微/奈米粒子合成

微奈米粒子常被使用於光學膜中，作為光散 射、光柵獲是物理特性提升之目的，常用之粒子包括：二氧化矽、二氧化鈦、聚苯乙烯以及其複合粒子。雖然合成方法已經大量被提出，然而對於其粒徑分佈之控制 卻很少被探討。例如。Stober方法為二氧化矽最常用之合成方式，以矽氧烷作為原料，利用溶凝膠法可以合成單一粒晶分佈之奈米粒子。雖然這方法可以合成 出分散度小之奈米粒子，但通常合成出的粒子，粒徑分佈相對標準差可以達30%，對於數百奈米大小之粒子，粒徑大小可以差異將近數十至百奈米。對於須有較高 之均一性如光子晶體而言，高均一性奈米粒子合成設計特別重要。一般在合成二氧化矽奈米粒子約有五個實驗變因，包括TEOS濃度、水含量、NH3濃度、反應 溫度和溶劑等。由於TEOS濃度太高或是使用高烷數之醇類作為溶劑，容易得到不規則之奈米粒子。因此，同時有很多條件可以得到相同粒徑，無法得到最窄分布 條件。因此，我們進行下列相關研究：

• 單一粒徑奈米粒子之Lagrange multiplier設計
• 二氧化矽奈米粒子合成
• 二氧化鈦奈米粒子合成
• 聚苯乙烯微米粒子合成
• 聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸奈米粒子合成